潜水镜防雾处理-潜水镜防雾处理报价-东莞仁睿电子科技
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反射膜一般可分为两类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有将两者结合的金属电介质反射膜，功能是增加光学表面的反射率。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率，却破坏了金属膜中性反射的特点。
光学薄膜的技术和直接影响到应用系统的性靠性及成本。光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。
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光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。镀膜前清洗需要注意的问题主要有三点:1清洗干净;2不伤基材(对附着在基材上的油墨等无损伤);3易漂洗。镀膜技术发展到现在阶段，决定镀膜成败的往往是基材自身的洁净程度以及前后工序对材料整体的影响，例如基材带油墨进行镀膜。所以镀膜前对基材的清洗就显得尤为关键。潜水镜防雾处理
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